发明名称 SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND METHOD
摘要 <p>본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 수평 상태로 기판을 반송하도록 제공된 제 1 반송 유닛 및 상기 기판에 제 1액을 공급하는 제 1 노즐을 갖는 제 1 챔버, 제 1 방향을 따라 상기 제 1 챔버의 후방에 배치되고, 수평상태와 제 1 경사 상태 간에 전환이 가능하고 상기 기판을 반송하는 제 2 반송 유닛을 가지는 제 2 챔버, 상기 제 1 방향을 따라 상기 제 2 챔버의 후방에 배치되고, 상기 제 1 경사 상태와 제 2 경사 상태 간에 전환이 가능하고 상기 기판을 반송하는 제 3 반송 유닛을 갖는 제 3 챔버를 포함할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101581319(B1) 申请公布日期 2015.12.31
申请号 KR20130168134 申请日期 2013.12.31
申请人 세메스 주식회사 发明人 김진호
分类号 B65G49/06;G02F1/13;H01L21/677 主分类号 B65G49/06
代理机构 代理人
主权项
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