| 发明名称 | 图案形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种图案形成方法，包括下列步骤。提供晶片，晶片包括多个晶片内部管芯与多个晶片边缘管芯。在各晶片内部管芯上形成第一图案，且在各晶片边缘管芯上形成第二图案，其中第一图案的形成方法包括进行至少两次曝光制作工艺，第二图案的形成方法包括进行上述至少两次曝光制作工艺中的至少一次，且形成第二图案所进行的曝光制作工艺次数少于形成第一图案所进行的曝光制作工艺次数。 | ||
| 申请公布号 | CN105206507A | 申请公布日期 | 2015.12.30 |
| 申请号 | CN201410319742.0 | 申请日期 | 2014.07.07 |
| 申请人 | 力晶科技股份有限公司 | 发明人 | 翁文毅;翁子文 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陈小雯 |
| 主权项 | 一种图案形成方法，包括：提供一晶片，该晶片包括多个晶片内部管芯与多个晶片边缘管芯；以及在各该晶片内部管芯上形成一第一图案，且在各该晶片边缘管芯上形成一第二图案，其中该些第一图案的形成方法包括进行至少两次曝光制作工艺，该些第二图案的形成方法包括进行该至少两次曝光制作工艺中的至少一次，且形成该些第二图案所进行的曝光制作工艺次数少于形成该些第一图案所进行的曝光制作工艺次数。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹科学工业园区 | ||