发明名称 |
一种阵列基板及显示装置 |
摘要 |
本发明公开了一种阵列基板及显示装置,其中,阵列基板的非显示区域设置有与扇出走线异层设置的电容补偿膜层,而且,该电容补偿膜层与每条扇出走线的正对面积按照所述扇出走线的长度由大至小的顺序逐渐增大,使得长度较长的扇出走线与电容补偿膜层的正对面积相对较小,长度较短的扇出走线与电容补偿膜层的正对面积相对较大,进而,长度较长的扇出走线的电阻与相应补偿电容的乘积与长度较短的扇出走线的电阻与相应补偿电容的乘积近乎相等,这种设计方案可以减小电阻差异,保证每条扇出走线的电阻与相应补偿电容的乘积近乎相等,改善扇出走线信号不均一的问题,提升画面显示均一性。同时,还可以避免增加额外的布线空间,保证窄边框的需求。 |
申请公布号 |
CN105204248A |
申请公布日期 |
2015.12.30 |
申请号 |
CN201510653969.3 |
申请日期 |
2015.10.10 |
申请人 |
重庆京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
王小元;王武;金在光;白雅杰 |
分类号 |
G02F1/1345(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1345(2006.01)I |
代理机构 |
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 |
代理人 |
黄志华 |
主权项 |
一种阵列基板,包括显示区域和非显示区域,其中,所述阵列基板的非显示区域设置有多条不同长度的扇出走线,其特征在于,所述阵列基板的非显示区域还包括:与所述扇出走线异层设置的电容补偿膜层,其中,所述电容补偿膜层与每条扇出走线的正对面积按照所述扇出走线的长度由大至小的顺序逐渐增大。 |
地址 |
400714 重庆市北碚区水土高新技术产业园云汉大道5号附12号 |