一种MOCVD设备及其中寄生颗粒的清除方法

摘要

本发明提供一种MOCVD设备及其中寄生颗粒的清除方法，在反应腔的顶部设置喷淋头，将有机金属气体、氢化物气体、载气和清洗气体分别输送至反应腔内；在喷淋头底面的中间区域，将刚喷出的有机金属气体与氢化物气体隔开；在喷淋头底面的边缘区域，通过输送清洗气体来分解有机金属气体和氢化物气体进行预反应所形成的寄生颗粒。本发明可有效减少寄生颗粒对反应腔内设备的污染，保证薄膜生长质量，提升薄膜生长率。

主权项

一种MOCVD设备，其特征在于，设有位于反应腔内顶部的喷淋头；从设置在该喷淋头底面的中间区域的进气口，向反应腔内输送互相隔开的有机金属气体和氢化物气体，并输送载气以携带有机金属气体和氢化物气体至位于反应腔内底部的基片表面进行薄膜沉积反应；还从设置在该喷淋头底面的边缘区域的进气口，向反应腔内输送清洗气体，通过清洗气体对有机金属气体和氢化物气体在到达基片之前进行预反应所形成的寄生颗粒进行分解。