发明名称 EXPOSURE METHOD EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE
摘要 <p>노광 방법은, 제1 기판에 생기는 비선형 왜곡 중, 산출을 위해 제1 기판에서의 제1 점수의 마크 계측이 필요한 제1 성분과, 제1 점수보다 적은 제2 점수의 마크 계측으로 산출할 수 있는 제2 성분의 관계를 도출하는 것과, 제2 기판에서 제2 점수의 마크 계측을 실행하는 것과, 제2 기판에서의 제2 점수의 마크 계측의 결과와, 관계에 기초하여, 제2 기판의 변형 정보를 취득하는 것과, 취득한 변형 정보에 기초하여, 제2 기판을 노광광으로 노광하는 것을 포함한다.</p>
申请公布号 KR101581083(B1) 申请公布日期 2015.12.30
申请号 KR20127018674 申请日期 2011.01.18
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 기토 요시아키
分类号 G01B11/16;G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 主分类号 G01B11/16
代理机构 代理人
主权项
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