发明名称 倾斜扫描式光刻机在步进式曝光时的二维拼接处理方法
摘要 本发明提供一种倾斜扫描式光刻机在步进式曝光时的二维拼接处理方法,包括计算出待曝光图形每次拆分的单色位图大小;将待曝光图形拆分成若干个单色位图,不足部分以黑图填充;旋转单色位图并扩展至图形发生器视场大小;移动精密运动平台,逐行完成曝光。本发明解决了倾斜扫描式光刻机在步进式曝光过程中拼接处无法正常拼接的问题,在拆分曝光图形时,根据图形发生器与精密运动平台的固定夹角对曝光图形进行变换处理,通过控制精密运动平台将各个单色位图组合成一个完整的曝光图形,使最终刻蚀后的图形在所有的拼接位置均达到良好的拼接效果,从而提高了倾斜扫描式光刻机步进式曝光的质量。
申请公布号 CN105204297A 申请公布日期 2015.12.30
申请号 CN201510662680.8 申请日期 2015.09.30
申请人 合肥芯碁微电子装备有限公司 发明人 陆敏婷
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 合肥天明专利事务所 34115 代理人 宋倩;奚华保
主权项 一种倾斜扫描式光刻机在步进式曝光时的二维拼接处理方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)根据图形发生器视场大小以及图形发生器宽度方向与精密运动平台X轴方向的夹角α,计算出待曝光图形每次拆分的单色位图大小;(2)根据计算出的单色位图大小,将待曝光图形拆分成若干个单色位图,不足部分以黑图填充;(3)将获得的单色位图以其中心为原点旋转角度α,并将旋转后的单色位图大小扩展至图形发生器视场大小,得到若干个扩展单色位图;(4)移动精密运动平台至起始曝光位置,查找与所述起始曝光位置对应的扩展单色位图并发送到图形发生器中进行显示,完成所述起始曝光位置的曝光;(5)将精密运动平台沿X轴方向步进一个单色位图宽度在精密运动平台X轴方向的投影距离作为当前曝光位置,并完成所述当前曝光位置的曝光;(6)重复步骤(5),直至待曝光图形的一行曝光完毕;(7)将精密运动平台沿X轴方向回退到当前行的首个曝光位置,然后沿Y轴方向步进一个单色位图高度在精密运动平台Y轴方向的投影距离作为新的一行的首个曝光位置,并完成所述新的一行的首个曝光位置的曝光;重复步骤(5)~(6);(8)重复步骤(7),直至待曝光图形所拆分的单色位图全部曝光完毕。
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