发明名称 用于中子产生系统的靶系统和中子产生系统
摘要 本实用新型提供了用于一种中子产生系统的靶系统和一种中子产生系统。靶系统包括:用作靶体的多个固体颗粒;以及通道部件,所述通道部件具有用于固体颗粒通过的相对于水平方向倾斜的通道。根据本实用新型的实施方式,例如可以消除现有技术中产生的射流影响及减少强放射性污染问题。
申请公布号 CN204929373U 申请公布日期 2015.12.30
申请号 CN201520706804.3 申请日期 2015.09.11
申请人 中国科学院近代物理研究所 发明人 詹文龙;杨磊;高笑菲;张雅玲
分类号 H05H6/00(2006.01)I;H05H3/06(2006.01)I 主分类号 H05H6/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 孙纪泉
主权项 一种用于中子产生系统的靶系统,其特征在于包括:用作靶体的多个固体颗粒;以及通道部件,所述通道部件具有用于固体颗粒通过的相对于水平方向倾斜的通道。
地址 730000 甘肃省兰州市城关区南昌路509号