| 发明名称 | 一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置及方法 | ||
| 摘要 | 本发明属于物理气相沉积领域,公开了一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置，该装置包括磁控溅射靶，磁控溅射靶前设有磁靴，其中磁靴由一对磁场相反的电磁铁组成，磁靴产生的磁场平行于磁控溅射靶的靶面。本发明磁靴增强磁控溅射镀膜装置离化率可以由原来的10%提高到60%。本发明还公开了一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜方法，该方法制备的涂层具有高结合力、超韧的特性。 | ||
| 申请公布号 | CN105200384A | 申请公布日期 | 2015.12.30 |
| 申请号 | CN201510705273.0 | 申请日期 | 2015.10.27 |
| 申请人 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 发明人 | 张斌;张俊彦;高凯雄;强力 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/35(2006.01)I |
| 代理机构 | 兰州中科华西专利代理有限公司 62002 | 代理人 | 方晓佳 |
| 主权项 | 一种类金刚石薄膜的磁靴增强磁控溅射镀膜装置，该装置包括磁控溅射靶（1），其特征在于所述磁控溅射靶（1）前设有磁靴（3），其中磁靴（3）由一对磁场相反的电磁铁组成，磁靴（3）产生的磁场平行于磁控溅射靶（1）的靶面。 | ||
| 地址 | 730000 甘肃省兰州市城关区天水中路18号 | ||