MEMS器件及其制造方法

摘要

本发明提供了一种MEMS器件及其制造方法，该器件包括：基底；布线埋层，位于所述基底上，所述布线埋层图形化为一个或多个布线图形；牺牲层，位于所述基底上，所述牺牲层中具有空腔，所述布线图形的至少一部分位于所述空腔内；运动质量块层，所述运动质量块层的至少一部分由所述牺牲层支撑，所述运动质量块层包括位于所述空腔上方的运动质量块，所述运动质量块朝向所述空腔的表面具有向所述空腔突出的突点。本发明能够减小了运动质量块与布线图形、基底之间的接触面积，可以有效减少或防止粘连。

主权项

一种MEMS器件，其特征在于，包括：基底；布线埋层，位于所述基底上，所述布线埋层图形化为一个或多个布线图形；牺牲层，位于所述基底上，所述牺牲层中具有空腔，所述布线图形的至少一部分位于所述空腔内；运动质量块层，所述运动质量块层的至少一部分由所述牺牲层支撑，所述运动质量块层包括位于所述空腔上方的运动质量块，所述运动质量块朝向所述空腔的表面具有向所述空腔突出的突点。