| 摘要 |
<p>본 발명은 플라즈마 아크토치의 위치조절장치에 관한 것이다. 본 발명은 실리콘 용탕에 대해 플라즈마 아크토치를 승강시키는 승강장치와; 상기 실리콘 용탕에 대해 플라즈마 아크토치를 원주방향으로 회전시키는 회전장치와; 상기 실리콘 용탕에 대해 플라즈마 아크토치의 각도를 조절하는 각도조절장치를 포함한다. 그리고, 상기 플라즈마 아크토치는 다수개가 방사형으로 일정한 간격으로 배치된다. 이와 같은 본 발명에 의하면, 고상의 실리콘을 용융하여 초기 용탕을 형성하는데 소요되는 시간이 단축되고 주조속도가 증가되는 효과가 있다. 또한, 원료의 용해성을 향상시킬 수 있고, 안정적인 원료의 용해가 가능하여 경제적인 연속주조 및 고품질의 태양전지용 실리콘 잉고트를 제조할 수 있는 효과가 있다.</p> |
