发明名称 |
一种电化学水垢去除装置 |
摘要 |
本申请提供了一种电化学水垢去除装置,包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元;所述水垢晶核生成单元包括槽体;所述槽体的底部设有进水口和排污口;所述槽体的顶端设有出水口;设置于所述槽体的内部的旋转阴极;设置于所述槽体的内部的阳极。在本申请中,在旋转阴极附近,水溶液电解产生OH-,在旋转阴极附近界面层获得pH值高达14的碱性溶液,旋转电极将电化学过程中旋转阴极表面上和界面层中形成的水垢晶核扩散到溶液中,大量的晶核为溶液中的结垢离子提供了超大的晶体生长表面和晶体活性生长点;由于大量微小晶核的表面积比旋转阴极表面积大很多倍,结垢离子结晶析出的机率大大增加,除垢效率也就增加。 |
申请公布号 |
CN104261573B |
申请公布日期 |
2015.12.30 |
申请号 |
CN201410522350.4 |
申请日期 |
2014.09.30 |
申请人 |
章明歅;章俊杰 |
发明人 |
章明歅;章俊杰 |
分类号 |
C02F5/00(2006.01)I |
主分类号 |
C02F5/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人 |
赵青朵 |
主权项 |
一种电化学水垢去除装置,包括用于电化学水处理的水垢晶核生成单元;所述水垢晶核生成单元包括槽体;所述槽体的底部设有进水口和排污口;所述槽体的顶端设有出水口;设置于所述槽体的内部的旋转阴极;所述旋转阴极以30rpm~1500rpm的角速度连续旋转;设置于所述槽体的内部的阳极;所述槽体的内部还包括隔膜;所述隔膜设置在所述阳极和所述旋转阴极之间,将槽体相应分为阳极室和阴极室;所述水垢晶核生成单元还包括辅助电极;所述辅助电极位于阴极室内。 |
地址 |
100192 北京市朝阳区林萃西里9-2-102室 |