发明名称 |
具有低的固体物含量的化学机械抛光组合物及与其相关的方法 |
摘要 |
公开抛光组合物和抛光基材的方法。所述组合物具有低负载量(例如,最高达0.1重量%)的研磨剂颗粒。所述抛光组合物还含有水和至少一种阴离子型表面活性剂。在一些实施方式中,所述研磨剂颗粒为α氧化铝颗粒(例如,涂覆有有机聚合物)。所述抛光组合物可用于例如抛光弱强度的基材例如有机聚合物。在一些实施方式中,在所述组合物中包括用于氧化有机聚合物和硅中的至少一种的试剂。 |
申请公布号 |
CN105209567A |
申请公布日期 |
2015.12.30 |
申请号 |
CN201480028470.7 |
申请日期 |
2014.03.12 |
申请人 |
嘉柏微电子材料股份公司 |
发明人 |
L.傅;S.格鲁姆宾 |
分类号 |
C09K3/14(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I |
主分类号 |
C09K3/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 11105 |
代理人 |
宋莉 |
主权项 |
抛光组合物,其包含:(a)0.001重量%至0.1重量%的涂覆有聚合物的研磨剂颗粒,(b)至少一种阴离子型表面活性剂,和(c)水,其中所述组合物具有1.5至5的pH。 |
地址 |
美国伊利诺伊州 |