| 发明名称 | 阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板和显示装置。所述阵列基板包括显示区域和位于所述显示区域周边的非显示区域，所述非显示区域包括第一对位标记区域和辅助对位标记区域；所述辅助对位标记区域包括由下至上依次层叠设置的绝缘层、第一刻蚀阻挡层和钝化层，所述钝化层上形成辅助对位图案；所述第一对位标记区域包括由下至上依次层叠设置的第一对位标记、绝缘层和钝化层。上述阵列基板的辅助对位标记区域具有第一刻蚀阻挡层，这样使通过刻蚀工艺形成的辅助对位图案的深度较小，从而在通过摩擦取向制备取向层时，可以降低摩擦布上刷毛的弯曲、变形，减小取向槽的误差，有助于避免出现显示不良。 | ||
| 申请公布号 | CN105206624A | 申请公布日期 | 2015.12.30 |
| 申请号 | CN201510695411.1 | 申请日期 | 2015.10.22 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 | 发明人 | 蔡振飞;慕绍帅;彭国昊;季雨 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L23/544(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 柴亮;张天舒 |
| 主权项 | 一种阵列基板，包括显示区域和位于所述显示区域周边的非显示区域，其特征在于，所述非显示区域包括第一对位标记区域和辅助对位标记区域；其中，所述辅助对位标记区域包括由下至上依次层叠设置的绝缘层、第一刻蚀阻挡层和钝化层，所述钝化层上形成辅助对位图案；所述第一对位标记区域包括由下至上依次层叠设置的第一对位标记、绝缘层和钝化层。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||