| 摘要 |
<p>본 발명은 임프린트 기법을 이용한 나노박막 패턴 형성·전사 방법 및 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 금속 기판에 형성된 나노박막에 임프린트 기법을 이용해 나노박막에 패턴을 형성하되 스탬프에 형성된 패턴에 의해 눌린 부분의 나노박막 상면이 금속 기판의 상면보다 하측으로 들어가도록 임프린트하고, 패턴이 형성된 나노박막을 원하는 타겟 기판에 전사할 수 있는 임프린트 기법을 이용한 나노박막 패턴 형성·전사 방법 및 장치에 관한 것이다.</p> |
