| 摘要 |
Es wird ein optisches System (138) für eine Lithographieanlage (100) bereitgestellt, aufweisend eine Blendeneinrichtung (216) mit zumindest einer Blende (200) zum Blockieren zumindest eines Bereichs (204) eines Strahlengangs (206), und eine magnetische Vorrichtung (202), welche die Blendeneinrichtung (216) berührungsfrei lagert. |
