添加剤を含むケイ素含有ＥＵＶレジスト下層膜形成組成物

摘要

【課題】 レジスト形状が良好なＥＵＶレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】 加水分解性シラン（ａ）の加水分解縮合物を含むポリシロキサン（Ａ）と、スルホンアミド構造、カルボン酸アミド構造、ウレア構造、又はイソシアヌル酸構造を有する加水分解性シラン化合物（ｂ）とを含むＥＵＶリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。加水分解性シラン（ａ）と、スルホンアミド構造、カルボン酸アミド構造、ウレア構造、又はイソシアヌル酸構造を有する加水分解性シラン化合物（ｂ）との加水分解縮合物を含むポリシロキサン（Ｂ）とを含むＥＵＶリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。ポリシロキサン（Ａ）が、テトラアルコキシシランとアルキルトリアルコキシシランとアリールトリアルコキシシランとの共加水分解縮合物である。【選択図】 なし