发明名称 透明導電基板の製造方法、透明導電基板及び静電容量式タッチパネル
摘要 真空プロセス、ウェットエッチング法によることなく、簡便な工法で、パターン認識性の高い静電容量式タッチパネル用の透明導電基板の製造方法、透明導電基板及び静電容量式タッチパネルを提供する。透明フィルムの少なくとも一方の主面に、電極用引き回し電極パターンを導電性ペーストにより形成し、電極パターン形成部において、電極用引き回し電極パターンに接続するように、金属ナノワイヤまたは金属ナノ粒子を含む透明導電パターン形成用インクにより電極パターンを印刷して乾燥し、乾燥後の電極パターンに光照射部(18)においてパルス光を照射して、透明導電パターン形成用インクに含まれる金属ナノワイヤまたは金属ナノ粒子を焼結する。
申请公布号 JPWO2013161997(A1) 申请公布日期 2015.12.24
申请号 JP20140512710 申请日期 2013.04.26
申请人 国立大学法人大阪大学;昭和電工株式会社 发明人 菅沼 克昭;内田 博;篠崎 研二
分类号 G06F3/041;G06F3/044 主分类号 G06F3/041
代理机构 代理人
主权项
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