发明名称 トリアルコキシシランの製造方法
摘要 <p>The present invention relates to a method for preparing SiH(OR 3 )-type trialkoxysilane (wherein, R is a C1-C3 methyl, ethyl, propyl or isopropyl group), and more specifically, the method comprises the steps of: preventing the oxidation of a silicon surface by pulverizing raw silicon material in a solvent environment without contact with the air so that the initial induction period of the direct synthesis of trialkoxysilane is dramatically reduced; and removing impurities from a reaction environment by continuously selecting a part of the solvent through a membrane filter provided in a reactor body.</p>
申请公布号 JP5836489(B2) 申请公布日期 2015.12.24
申请号 JP20140529602 申请日期 2012.03.30
申请人 オーシーアイ カンパニー リミテッド;インスティテュート オブ イオン‐プラズマ アンド レーザー テクノロジーズ 发明人 ヤン・セイン;キム・ヨンイル;キム・キョンヨル;キム・ドギュン;カタム・アシュロフ;ボリス・アブドゥラクマノフ;ヴラディミル・ロシュティン;シャヴカト・サリクフ;キカヤ・アシュロバ;アクマル・サリムボエフ;スルタン・アジゾフ;サビール・サイドフ
分类号 C07F7/04 主分类号 C07F7/04
代理机构 代理人
主权项
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