发明名称 |
一种环形栅半导体功率器件和制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种环形栅半导体功率器件和制备方法,包括源极,漏极和环形的N型漂移区,其特征在于,所述N型漂移区连接所述源极和漏极,所述N型漂移区内插入了一层U形场板,所述场板将所述源极、漏极和N型漂移区分隔成上漂移区和下漂移区,所述场板与所述上漂移区和下漂移区之间设置有两层栅氧层,所述场板靠近源极的一端连接栅极;在传统的Trench LDMOS的N型漂移区插入一层N型重掺杂多晶硅,使得器件变成了双沟道双通道器件,在提高器件导通电流的同时增加了器件的击穿电压。 |
申请公布号 |
CN105185819A |
申请公布日期 |
2015.12.23 |
申请号 |
CN201510651422.X |
申请日期 |
2015.10.10 |
申请人 |
工业和信息化部电子第五研究所华东分所 |
发明人 |
夏超;张琦 |
分类号 |
H01L29/06(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/06(2006.01)I |
代理机构 |
北京品源专利代理有限公司 11332 |
代理人 |
孟金喆;胡彬 |
主权项 |
一种环形栅半导体功率器件,其特征在于,包括源极,漏极和环形的N型漂移区,其特征在于,所述N型漂移区连接所述源极和漏极,所述N型漂移区内插入了一层U形场板,所述场板将所述源极、漏极和N型漂移区分隔成上漂移区和下漂移区,所述场板与所述上漂移区和下漂移区之间设置有两层栅氧层,所述场板靠近源极的一端连接栅极。 |
地址 |
215400 江苏省苏州市高新区珠江路117号 |