发明名称 半导体装置及半导体装置的制造方法
摘要 本发明提供一种通过引线(7)电连接半导体元件与电路层的模块结构的半导体装置,在半导体元件的正面电极(12)的表面形成正面金属膜(14),在该正面金属膜(14)上通过引线键合而接合有引线(7)。正面金属膜(14)的硬度比正面电极(12)或引线(7)的硬度高。如此,能够提高半导体装置的功率循环能力。
申请公布号 CN105190858A 申请公布日期 2015.12.23
申请号 CN201480012154.0 申请日期 2014.04.23
申请人 富士电机株式会社 发明人 百濑文彦;齐藤隆;木户和优;西村芳孝
分类号 H01L21/60(2006.01)I 主分类号 H01L21/60(2006.01)I
代理机构 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人 韩明星;金玉兰
主权项 一种半导体装置,是通过引线键合电连接半导体元件的电极与引线而成的半导体装置,其特征在于,在所述电极的表面设置有硬度比所述引线高的金属膜,所述引线通过引线键合被接合在所述金属膜上,所述引线的与所述金属膜的接合界面的再结晶温度为175℃以上。
地址 日本神奈川县川崎市