一种低温氧等离子体超净水清洗硅片系统

摘要

本发明公开了一种低温氧等离子体超净水清洗硅片系统与方法，其特征在于该系统主要包括等离子体源、高频高压电源、气液溶解器、气液混合器、气液分离器、剩余低温氧等离子体气体消除器、低温氧等离子体水溶液浓度检测仪、硅片清洗槽、硅片清洗支架、阀体、过滤器、离心泵、止回阀、流量计等。清洗方法是把制取浓度为20mg/L～50mg/L的低温氧等离子体超净水注入硅片清洗槽中，在水温为5℃～40℃时，清洗硅片时间为2s～1min，去除硅片表面有机污染物、金属沾污物、颗粒物和自然氧化膜，去除率高于O₃/HF、SPM(H₂SO₄/H₂O₂)和HPM(HCl/H₂O₂)等传统方法。

主权项

一种低温氧等离子体超净水清洗硅片系统，其特征在于，该系统主要包括等离子体源、高频高压电源、高频高压变压器、高频高压电源控制器、冷却水循环泵、剩余低温氧等离子体气体消除器、低温氧等离子体水溶液浓度检测仪、硅片清洗槽、硅片清洗支架、喷嘴、液位控制器、电磁阀、气液溶解器、气液混合器、气液分离器、流量计、止回阀、离心泵、过滤器、球阀等，所述O₂经气阀调节流量和流量计计量后输入等离子体源；所述供电电压～220V(或～380V)输入高频高压电源控制器输入端，经高频高压电源控制器调频调压后，从高频高压电源控制器输出端输出后，加入高频高压变压器输入端，经高频高压变压器升压后输入从高频高压电源；所述高频高压电源输出高频高压电输入等离子体源；所述等离子体源在高频高压电作用下把O₂离解、电离、离解电离成高浓度低温氧等离子体；所述低温氧等离子体经气阀调节流量和流量计计量后注入气液溶解器；所述低温氧等离子体与超净水在气液溶解器混合溶解；所述混合溶解的气液经阀调节后注入气液分离器；所述气液分离器把低温氧等离子体超净水与未溶解的剩余低温氧等离子体分离开；所述剩余低温氧等离子体经液位控制器控制调节阀输入剩余低温氧等离子体气体消除器；所述剩余低温氧等离子体气体消除器把剩余低温氧等离子体高温还原成O₂排空；所述低温氧等离子体超净水输入管道上设置压力表和低温氧等离子体水溶液浓度检测仪，计量管道中压力和测量低温氧等离子体超净水浓度；所述低温氧等离子体超净水输出管道设置上离心泵输送低温氧等离子体超净水；所述低温氧等离子体超净水输出管道上设置阀、流量计调节计量低温氧等离子体超净水流量；所述低温氧等离子体超净水输出管道上设置过滤器清除低温氧等离子体超净水中杂质；所述低温氧等离子体超净水输出管道上设置止回阀防止低温氧等离子体超净水回流；所述硅片清洗槽盛满低温氧等离子体超净水清洗硅片；所述硅片清 洗槽中放置硅片清洗支架和喷嘴；所述硅片放置在硅片清洗槽中的硅片清洗支架上进行清洗；所述冷却水循环泵用于等离子体源降温。