一种具有纳米有序孔径的温度敏感分离膜的制备方法

摘要

本发明将利用一种新的制备技术-嵌段共聚物选择性溶胀成孔方法，制备一种具有纳米有序孔的温度敏感膜，并将该温度敏感薄膜浸涂或者旋涂在传统基膜材料上，得到表面具有温度响应功能的复合膜。该温度敏感膜的膜孔尺寸均一，孔表面PNIPAAm含量和分布一致，能够有效提高温度敏感分离膜的响应性能。该温度敏感膜的制备过程主要包括以下步骤：首先利用原子转移自由基法合成嵌段共聚物PS-b-PNIPAAm，将PS-b-PNIPAAm溶解后旋涂在干净的玻璃片表面，干燥后进行溶剂退火处理，将退火处理后的玻璃片放置于乙醇或水中进行溶胀成孔，得到具有纳米有序孔道的聚合物薄膜。将PS-b-PNIPAAm溶液旋涂在商用基膜(PP/PVDF)上，利用上述方法得到表层具有纳米多孔温度响应功能层的PS-b-PNIPAAm/PP(PVDF)复合膜。

主权项

一种具有纳米有序孔径的温度敏感薄膜，该薄膜为聚苯乙烯(PS)与聚N‑异丙基丙烯酰胺(PNIPAAm)的嵌段共聚物通过选择性溶胀成孔制得，其中PS和PNIPAAm的分子量分布均在1.3以下，控制PNIPAAm在共聚物中的体积组成在37％以下，以保证平衡分相后能得到PNIPAAm微区以柱体或螺旋结构形式分散于PS本体相中的形貌。