发明名称 CAPACITIVELY COUPLED PLASMA EQUIPMENT WITH UNIFORM PLASMA DENSITY
摘要 여기에서 설명하는 기술은 플라즈마를 생성하기 위해 사용하는 전극의 전역에 걸쳐서 균일한 전자 밀도를 가진 플라즈마를 생성하기 위한 장치 및 공정을 포함한다. 용량 결합형 플라즈마 시스템의 상부 전극은 균일한 플라즈마의 생성을 조력하도록 구성된 구조적 특징을 포함할 수 있다. 그러한 구조적 특징은 상기 플라즈마에 면하는 표면에서의 표면 형상을 규정한다. 그러한 구조적 특징은 대략 직사각형의 단면을 가지며 상부 전극의 표면으로부터 돌출하는 동심 링의 집합을 포함할 수 있다. 그러한 구조적 특징은 소정의 단면 크기 및 형상을 가진 네스트된 긴 돌기들을 또한 포함할 수 있고, 상기 돌기들의 간격은 시스템이 균일 밀도의 플라즈마를 생성하도록 선택된다. 플라즈마 균일성을 유지하면서 플라즈마로부터의 부식을 방지 또는 금지하기 위해 유전체 부재가 상기 구조적 특징 위에 배치될 수 있다.
申请公布号 KR20150143793(A) 申请公布日期 2015.12.23
申请号 KR20157032752 申请日期 2014.04.03
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 SAWADA IKUO;VENTZEK PETER
分类号 H01J37/32 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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