发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD, SCANNING EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING SYSTEM, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 소정 곡률로 원통면 모양으로 만곡한 제1 면을 따르도록, 마스크와 기판 중 일방을 지지하는 제1 지지 부재와, 소정의 제2 면을 따르도록 마스크와 기판 중 타방을 지지하는 제2 지지 부재와, 제1 지지 부재를 회전시키고, 또한, 제2 지지 부재를 이동시켜, 마스크와 기판을 주사 노광 방향으로 이동시키는 이동 기구를 구비하며, 투영 광학계는, 투영 영역의 주사 노광 방향의 중심에 수직인 선에 대략 평행한 주광선을 포함하는 투영 광속에 의해서 패턴의 상(像)을 소정의 투영상면에 형성하고, 이동 기구는, 제1 지지 부재의 이동 속도 및 제2 지지 부재의 이동 속도를 설정하고, 패턴의 투영상면과 기판의 노광면 중 곡률이 보다 큰 면 또는 평면이 되는 측의 이동 속도를 타방의 이동 속도 보다도 상대적으로 작게 한다.
申请公布号 KR20150143741(A) 申请公布日期 2015.12.23
申请号 KR20157032598 申请日期 2014.03.24
申请人 NIKON CORPORATION 发明人 KATO MASAKI;SUZUKI TOMONARI;KITO YOSHIAKI;HORI MASAKAZU;HAYASHIDA YOSUKE;KIUCHI TORU
分类号 G03F7/24;G03F7/20;H01L21/033 主分类号 G03F7/24
代理机构 代理人
主权项
地址