| 发明名称 | 用于控制谱法用等离子体的方法和装置 | ||
| 摘要 | 一种用于控制光学发射光谱法或质谱法用电感耦合等离子体或微波诱导等离子体的温度的方法和装置，其中测量由该等离子体发射的两条辐射光谱线的强度，并且调整所提供的用于维持该等离子体的功率以使得这些强度的比率保持基本上恒定。 | ||
| 申请公布号 | CN105190830A | 申请公布日期 | 2015.12.23 |
| 申请号 | CN201480007759.0 | 申请日期 | 2014.03.13 |
| 申请人 | 赛默电子制造有限公司 | 发明人 | S·哈特维尔 |
| 分类号 | H01J49/10(2006.01)I;G01N21/73(2006.01)I;H01J27/16(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;H05H1/00(2006.01)I;G01J3/443(2006.01)I | 主分类号 | H01J49/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 管琦琦 |
| 主权项 | 一种分析样品的方法，该方法包括以下步骤：(a)容许样品进入等离子体中；(b)通过测量来自该样品的光学发射或通过测量由该等离子体产生的该样品的离子的质荷比对该样品进行分析；以及(c)控制该等离子体的温度，其特征在于，控制该等离子体的温度通过测量由该等离子体发射的两条辐射光谱线的强度进行，并且调整所提供的用于维持该等离子体的功率以使得这些强度的比率保持基本上恒定。 | ||
| 地址 | 英国剑桥郡 | ||