发明名称 基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法
摘要 本发明公开了一种基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法,包括以下步骤:步骤一、施工竖井,并在所述竖井下端部侧向开马头门,同时沿所述马头门开挖横通道;步骤二、在所述横通道内设置二衬结构至所述横通道的顶拱拱脚处,在所述顶拱拱脚处水平设置有二衬顶板,往所述二衬顶板与所述拱顶围合形成的拱顶腔体内回填混凝土;步骤三、根据设计要求,在所述二衬顶板上方预留上盖物业基坑的围护结构的实施条件;步骤四、完成所述横通道的其他区间施工工作。本发明可先期施工地下区间结构,而不必受预建上盖物业的工法和工期限制,且有效的加强了其抗浮能力,可在顶部小净距地下室开挖条件下构筑高断面的横通道。
申请公布号 CN104047621B 申请公布日期 2015.12.23
申请号 CN201310080820.1 申请日期 2013.03.14
申请人 上海市城市建设设计研究总院 发明人 黄爱军;徐正良;田海波;张向霞;张增峰
分类号 E21D13/02(2006.01)I 主分类号 E21D13/02(2006.01)I
代理机构 上海硕力知识产权代理事务所 31251 代理人 王法男
主权项 一种基于顶部小净距地下室开挖条件的高断面横通道施工方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、施工竖井,并在所述竖井下端部侧向开马头门,同时沿所述马头门开挖横通道;步骤二、在所述横通道内设置二衬结构至所述横通道的顶拱拱脚处,在所述顶拱拱脚处水平设置有二衬顶板,往所述二衬顶板与拱顶围合形成的拱顶腔体内回填混凝土;步骤三、根据设计要求,在所述二衬顶板上方预留上盖物业基坑的围护结构的实施条件;步骤四、完成所述横通道的其他区间施工工作。
地址 200125 上海市浦东新区东方路3447号