| 摘要 |
본 발명은, 투명 도전막 및 투명 도전막의 제조 방법에 관한 것이다. 투명 도전막은, 투명 기체 (12) 와, 그 투명 기체 (12) 상에 형성된 금속 배선부 (14) 를 갖는 투명 도전막 (10) 에 있어서, 금속 배선부 (14) 의 전극부 (18) 를 구성하는 금속 세선 (24) 이, Ra/Sm ＞ 0.01 ㎛ 를 만족시키는 표면 형상을 가지며, 또한, 금속 체적율이 35 ％ 이상이다. 또한, Ra 는 산술 평균 조도를 나타내고, 표면 조도 측정 지점의 금속 배선의 두께 이하로서, 단위가 ㎛ 이다. Sm 은 요철의 평균 간격으로서, 0.01 ㎛ 이상이다. |
