发明名称 VAPOR DEPOSITION MASK, VAPOR DEPOSITION MASK PRECURSOR, VAPOR DEPOSITION MASK MANUFACTURING METHOD, AND ORGANIC SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURING METHOD
摘要 본 발명은, 대형화된 경우에도 고정밀화와 경량화의 양쪽을 만족할 수 있고, 또한, 강도를 유지하면서도, 고정밀의 증착 패턴의 형성이 가능한 증착 마스크, 및 이 증착 마스크를 간편하게 제조할 수 있는 증착 마스크의 제조 방법이나 증착 마스크 준비체, 나아가 고정밀의 유기 반도체 소자를 제조할 수 있는 유기 반도체 소자의 제조 방법을 제공한다. 복수의 슬릿(15)이 형성된 금속 마스크(10)와, 수지 마스크(20)가 적층되고, 수지 마스크(20)에는, 복수 화면을 구성하기 위하여 필요한 개구부(25)가 형성되고, 개구부(25)는 증착 제작하는 패턴에 대응하고 있으며, 각 슬릿(15)이 적어도 1 화면 전체와 겹치는 위치에 형성되어 있다.
申请公布号 KR20150143433(A) 申请公布日期 2015.12.23
申请号 KR20157024783 申请日期 2014.03.24
申请人 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. 发明人 TAKEDA TOSHIHIKO;OBATA KATSUNARI;OCHIAI HIROMITSU
分类号 H01L51/00;B23K26/06;C23C14/04;H01L21/203;H01L51/05;H01L51/56 主分类号 H01L51/00
代理机构 代理人
主权项
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