发明名称 静电吸附盘及其半导体设备
摘要
申请公布号 TWM514649 申请公布日期 2015.12.21
申请号 TW104211103 申请日期 2015.07.09
申请人 力鼎精密股份有限公司 发明人 陈彦如;王志斌;刘明晖;杨照彦;徐国展
分类号 H01L21/67;H01L23/34 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人 林秋琴 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;陈彦希 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;何爱文 台北市大安区敦化南路1段245号8楼
主权项 一种静电吸附盘,系用以吸附一工作件,该静电吸附盘包含:一陶瓷层;以及一电极层,包括一第一电极及一第二电极,系位于该陶瓷层内;其中该第一电极及该第二电极系以交插或交错的方式布置,又该第一电极之面积和该第二电极之面积比值为1~1.6;其中该陶瓷层和该工作件之间或该陶瓷层表面的均方根(Root Mean Square;RMS)粗糙度系介于0.2μm~2μm。
地址 苗栗县竹南镇科义街39号