光学机器用遮光构件

主权项

一种光学机器用遮光构件，其系含有由合成树脂薄膜所成的基材、与在前述基材的至少一面上形成的遮光膜之光学机器用遮光构件，其特征为：前述遮光膜系使用涂布液所成者，该涂布液含有羟值为100(mgKOH/g)以上的聚酯多元醇、碳黑及平均粒径未达1μm的微粒子。