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发明名称
発光素子の製造方法
摘要
<p>発光素子は、光透過性を有する基板に発光層を含む窒化物半導体層が積層され、半導体層に、Ag層を含む反射電極が積層されている。アニール処理として、前工程として第1アニール工程と、後工程として第2アニール工程とを行う。第1アニール工程では、雰囲気ガスとして、不活性ガスである窒素ガスによりアニールする。第2アニール工程では、酸素ガスを含むガスを雰囲気ガスとしてアニールする。アニール処理を2段階で行うことで、Ag層の皺の発生を減少でき、表面粗さを抑えることができる。</p>
申请公布号
JPWO2013161247(A1)
申请公布日期
2015.12.21
申请号
JP20140512342
申请日期
2013.04.19
申请人
パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人
堀 篤寛;政元 啓明
分类号
H01L33/10;H01L33/32
主分类号
H01L33/10
代理机构
代理人
主权项
地址
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