发明名称 |
PROCESS FOR TREATING A MAGNETIC STRUCTURE |
摘要 |
본 발명은 - CoFeB 합금을 포함하는 자기 재료의 적어도 하나의 제 1 층(102)을 포함하는 자기 구조(100)를 제공하는 단계(S10); - 저 에너지 광 이온으로 자기 구조(100)를 조사하는 단계(S20); 및 - 동시에 미리 설정된 온도 프로파일에서 미리 설정된 시간 동안 자기 구조(100)를 유지하는 단계(S30)를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 구조를 처리하는 방법에 관한 것이다. |
申请公布号 |
KR20150141951(A) |
申请公布日期 |
2015.12.21 |
申请号 |
KR20157026773 |
申请日期 |
2014.02.21 |
申请人 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE;UNIVERSITE PARIS SUD (PARIS XI) |
发明人 |
RAVELOSONA DAFINE |
分类号 |
H01L43/12;C23C18/50;H01F41/30;H01L43/02;H01L43/10 |
主分类号 |
H01L43/12 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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