发明名称 PROCESS FOR TREATING A MAGNETIC STRUCTURE
摘要 본 발명은 - CoFeB 합금을 포함하는 자기 재료의 적어도 하나의 제 1 층(102)을 포함하는 자기 구조(100)를 제공하는 단계(S10); - 저 에너지 광 이온으로 자기 구조(100)를 조사하는 단계(S20); 및 - 동시에 미리 설정된 온도 프로파일에서 미리 설정된 시간 동안 자기 구조(100)를 유지하는 단계(S30)를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 구조를 처리하는 방법에 관한 것이다.
申请公布号 KR20150141951(A) 申请公布日期 2015.12.21
申请号 KR20157026773 申请日期 2014.02.21
申请人 CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE;UNIVERSITE PARIS SUD (PARIS XI) 发明人 RAVELOSONA DAFINE
分类号 H01L43/12;C23C18/50;H01F41/30;H01L43/02;H01L43/10 主分类号 H01L43/12
代理机构 代理人
主权项
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