| 摘要 |
<p>광학계를 구성하는 광원으로부터의 광을 조사하여, 광학계의 해상도 이하의 치수의 반복 패턴을 갖는 시료의 광학 화상을, 광학계의 조건을 변경하며 복수 취득한다. 이어서, 복수의 광학 화상에 대해, 노이즈 필터 및 콘볼루션 필터 중 적어도 일방을 사용한 보정 처리를 실시한다. 다음으로, 복수의 광학 화상 중 어느 것을 기준으로 하여 다른 광학 화상의 위치를 시프트하고, 다른 광학 화상의 시프트량과, 복수의 광학 화상끼리에 있어서의 계조값의 상관 변화와의 관계를 구하고, 상관이 가장 높아질 때의 시프트량을 기초로 복수의 광학 화상의 위치 맞춤을 실시한다. 그 후, 위치 맞춤 후의 복수의 광학 화상을 사용하여 시료의 결함 검출을 실시한다. 결함 검출은, 복수의 광학 화상의 각 화소를 계조값 공간에 플롯하고, 결함이 있는 화소와 결함이 없는 화소를 분리함으로써 실시한다.</p> |
