| 发明名称 | 制程腔室以及半导体加工装置 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI513838 | 申请公布日期 | 2015.12.21 |
| 申请号 | TW103144876 | 申请日期 | 2014.12.22 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 吕峰;张风港;赵梦欣;丁培军 |
| 分类号 | C23C14/24;C23C14/56 | 主分类号 | C23C14/24 |
| 代理机构 | 代理人 | 蔡清福 台北市中山区中山北路3段27号13楼;蔡驭理 台北市中山区中山北路3段27号13楼 | |
| 主权项 | 一种制程腔室，包括反应舱、进气系统和晶片传输装置，其中，该反应舱设置在该制程腔室内，用以对晶片进行制程；该进气系统用于向该反应舱提供制程气体；该晶片传输装置用于将晶片传输至该反应舱内，其特征在于，在该反应舱内设置有衬环元件，该衬环元件的结构被设置为在其与该反应舱的内侧壁之间形成匀流腔，以通过该匀流腔将来自该进气系统的制程气体均匀地输送至该反应舱内。 | ||
| 地址 | 中国 | ||