发明名称 光学投影阵列曝光系统与其方法
摘要
申请公布号 TWI514002 申请公布日期 2015.12.21
申请号 TW102119784 申请日期 2013.06.04
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 马可 大卫;来迪科 汤玛士;堪士基 杰夫;陈正方
分类号 G02B27/10 主分类号 G02B27/10
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种空间光调变器成像系统,包含:一照明模组,其配置以提供照明光,该照明光呈现将由该空间光调变器成像系统成像之资料图案,其中该照明模组包含:复数个雷射二极体,其配置以产生该照明光;复数条光纤束,其配置以将该照明光传送至该照明-投影光束分离器;及一导光筒,其配置以均化传导(holds)该复数条光纤束;一投影模组,其配置以将该照明光投射至一基板;及一照明-投影光束分离器,其系耦接于该照明模组与该投影模组之间,其中该照明-投影光束分离器配置以沿一照明光轴接收该照明光,并将所接收之该照明光沿一投影光轴传送至该投影模组,其中该照明光轴与该投影光轴彼此实质平行。
地址 美国