发明名称 电子材料用研磨液、研磨方法及电子材料的制造方法
摘要
申请公布号 TWI513804 申请公布日期 2015.12.21
申请号 TW101123153 申请日期 2012.06.28
申请人 三洋化成工业股份有限公司 发明人 山口俊一郎
分类号 C09K3/14;B24B37/00;G11B5/84 主分类号 C09K3/14
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种电子材料用研磨液,其用于使用研磨垫对电子材料中间物进行研磨的步骤的研磨液,且其含有:中和盐(AB);研磨粒子(C);以及水,其中该中和盐(AB)是分子内具有至少1个酸基(X)的酸性化合物(A)、以及质子加成反应中的生成热变化(Q2)为10kcal/mol~152kcal/mol的含氮硷性化合物(B)的盐,且该中和盐(AB)是该酸基(X)的酸解离反应中的生成热变化(Q1)为3kcal/mol~200kcal/mol的中和盐,并且该中和盐(AB)的浓度为0.01wt%~4wt%,该研磨粒子(C)的浓度为1wt%~40wt%,该中和盐(AB)对于该研磨粒子(C)的比例为0.001~0.1。
地址 日本
您可能感兴趣的专利