| 发明名称 |
光半导体装置用密封剂及使用其之光半导体装置 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI513740 |
申请公布日期 |
2015.12.21 |
| 申请号 |
TW100134637 |
申请日期 |
2011.09.26 |
| 申请人 |
积水化学工业股份有限公司 |
发明人 |
谷川满;渡边贵志;乾靖;国广良隆;山崎亮介;小林佑辅 |
| 分类号 |
C08G77/48;C08G77/50;H01L23/29 |
主分类号 |
C08G77/48 |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
| 主权项 |
一种光半导体装置用密封剂，其含有：不具有与矽原子键结之氢原子，且具有与矽原子键结之烯基及与矽原子键结之芳基的第1有机聚矽氧烷；具有与矽原子键结之氢原子及与矽原子键结之芳基的第2有机聚矽氧烷；矽氢化反应用触媒；以及具有钛原子之有机化合物。 |
| 地址 |
日本 |
