发明名称 Etching apparatus for edge of substrate
摘要 <p>본 발명은 발광 소자가 설치될 수 있는 기판의 모서리부를 식각할 수 있는 기판 모서리 식각 장치에 관한 것으로서, 대상물을 식각액에 침지시킬 수 있도록 적어도 하나의 상기 대상물을 거치시키는 대상물 거치대; 및 상기 대상물의 평면부에서의 식각액 흐름 보다 상기 대상물의 모서리부에서의 식각액 흐름을 상대적으로 빠르게 하여 상기 대상물의 모서리부가 둥글게 라운딩 처리될 수 있도록 상기 대상물 거치대를 상기 식각액 속에서 이동시키는 대상물 이동 장치;를 포함할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101578757(B1) 申请公布日期 2015.12.21
申请号 KR20140002175 申请日期 2014.01.08
申请人 주식회사 루멘스;(주)웨이브닉스이에스피 发明人 김경민;조용욱;유성환;공명국
分类号 H01L23/12;H01L33/48 主分类号 H01L23/12
代理机构 代理人
主权项
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