发明名称 用于在一水冷核反应器之补充水中去除溶解气体的系统与方法
摘要
申请公布号 TWI513664 申请公布日期 2015.12.21
申请号 TW100132465 申请日期 2011.09.08
申请人 西屋电器公司 发明人 柯诺普卡 乔治G
分类号 C02F1/20 主分类号 C02F1/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种主要补充水系统,其包括用于至少部分地从一水冷核反应器中之该主要补充水系统中之补充水中去除溶解气体之处理系统,该主要补充水系统含:具有一排出口之一储存槽,该储存槽容纳包含溶解气体之补充水;一主要补充水系统出口,其位于该储存槽之下游;一排出管线,具有一第一端及一第二端,该第一端连接至该储存槽的该排出口,该第二端连接至该主要补充水系统出口;及一薄膜系统,其具有一进口及一出口且连接至该排出管线,该薄膜系统定位于该储存槽之该排出口之下游处且于该主要补充水系统出口之上游处;其中该排出管线自该储存槽之排出口经由该薄膜系统的该进口输送包括溶解气体的一补充水流,以至少部分地自该补充水流中去除该溶解气体,且自该薄膜系统的该出口产生一处理过之补充水流;其中该处理过之补充水流具有小于进入该薄膜系统之该进口的补充水流之溶解气体含量;及一运输机构,其从该薄膜系统之该出口输送该处理过之补充水流至该水冷核反应器中;其中,当该主要补充水系统处于一供应模式时,该处理过之补充水流供应至在该水冷核反应器中的一组件或系统,且当该主要补充水系统处于一非供应模式时,该 处理过之补充水流供应回该主要补充水系统之该储存槽。
地址 美国