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发明名称 基板洗净方法及基板洗净装置
摘要
申请公布号 TWI514451 申请公布日期 2015.12.21
申请号 TW100105342 申请日期 2011.02.18
申请人 东京威力科创股份有限公司;岩谷产业股份有限公司 发明人 松井英章;守屋刚;成岛正树
分类号 H01L21/30 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人 林秋琴 台北市大安区敦化南路1段245号8楼;何爱文 台北市大安区敦化南路1段245号8楼
主权项 一种基板洗净方法，其特征在于：系朝向附着有异物且配置于低压氛围中之基板喷出较该低压氛围要高压之气雾，而形成复数气体分子所构成的团簇(cluster)；使该团簇在未经离子化情况下冲撞该基板；藉由于该团簇冲撞该异物时加热该基板来促进该团簇与该异物之化学反应。
地址 日本
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