发明名称 排废气处理装置
摘要
申请公布号 TWI513501 申请公布日期 2015.12.21
申请号 TW099135957 申请日期 2010.10.21
申请人 千代田化工建设股份有限公司 发明人 武井昇;城户操介;锻治尚弘;熊谷昭
分类号 B01D53/18;B01D53/50;B01D53/77 主分类号 B01D53/18
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种排废气处理装置,其特征为:具备有:被导入排废气加以处理的密闭槽、将该密闭槽内部分隔成上下的分隔壁、设在前述密闭槽的前述分隔壁的下侧,贮留着用来从排废气吸收硫磺氧化物的脱硫用吸收液之吸收液贮留部、设在前述密闭槽的前述分隔壁的上侧,被从前述密闭槽的外部导入排废气的排废气导入部、与前述排废气导入部相连通,并且从前述分隔壁延伸到达被贮留在下方的前述吸收液贮留部的吸收液内,用以将排废气从前述排废气导入部喷出到吸收液内加以分散之复数个垂设管、与较之前述吸收液贮留部的吸收液更上侧的空间相连通,并且从前述分隔壁朝上方延伸而贯穿前述排废气导入部之气体上昇装置,前述气体上昇装置系被设成延伸到达较之前述排废气导入部更上方的前述密闭槽的外侧,利用该气体上昇装置将处理后的排废气导出到该密闭槽的外侧,前述吸收液贮留部的上部空间的垂直长度L1相对于前述密闭槽的相当直径D1的比值(L1/D1)是0.05~0.2,前述气体上昇装置的横断面积S2相对于前述密闭槽的横断面积S1的比值(S2/S1)是0.15~0.40, 前述气体上昇装置的垂直长度L2相对于前述气体上昇装置的相当直径D2的比值(L2/D2)是0.3~1.0,并且具备有:被设在前述气体上昇装置的上端,用来从在该气体上昇装置内上昇的处理过的排废气除去液滴之液滴消除装置,处理过的排废气系从前述气体上昇装置经过前述液滴消除装置而被导出,前述气体上昇装置,系20个以下,且其下端部是接合在前述分隔壁,并且与该气体上昇装置之与该分隔壁的下方之吸收液贮留部相连通的下端部相较,该气体上昇装置之供设置前述液滴消除装置之上端部这一方的断面积较大。
地址 日本