| 摘要 |
L'invention concerne un procédé de préparation d'un matériau à base de nanofils de silicium, comprenant les étapes de : i) Mise en contact, sous atmosphère inerte, d'un support sacrificiel à base d'un halogénure de métal alcalin, alcalinoterreux ou de transition comprenant des nanoparticules métalliques, d'une part, avec les vapeurs de pyrolyse d'une source de silicium comprenant un composé silane, d'autre part, ce par quoi on obtient des nanofils de silicium déposés sur ledit support sacrificiel ; et, éventuellement ii) Elimination du support sacrificiel et récupération des nanofils de silicium obtenus à l'étape ii), |
