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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Analysieren eines optischen Elements für den extremen ultravioletten Wellenlängenbereich (900, 1200, 1300), wobei das optische Element (900, 1200, 1300) ein Substrat (910, 1210, 1310) und zumindest eine auf dem Substrat (910, 1210, 1310) angeordnete Mehrschichtstruktur (950, 1250, 1350) aufweist und wobei das Verfahren den folgenden Schritt umfasst: Untersuchen einer Grenzfläche (960, 1260, 1360) zwischen dem Substrat (910, 1210, 1310) und der Mehrschichtstruktur (950, 1250, 1350) durch ein optisches System (1400, 1500), dessen Licht (1430, 1530) das Substrat (910, 1210, 1310) ausgehend von einer der Mehrschichtstruktur (950, 1250, 1350) abgewandten Seite (920, 1220, 1320) zumindest teilweise durchdringt. |
