| 摘要 |
<p>포토레지스트 도포 현상 장치로부터 노광 장치로 로드록 장치를 개재하여 반송할 때에, 웨이퍼 온도의 변화를 저감시킬 수 있는 포토레지스트 도포 현상 장치를 제공한다. 개시되는 포토레지스트 도포 현상 장치(1)는 기판에 포토레지스트막을 형성하는 포토레지스트막 형성부와, 포토레지스트막 형성부에서 포토레지스트막이 형성된 기판을 가열하는 가열 처리부와, 가열 처리부에서 가열되고 포토레지스트막이 형성된 기판을 상온으로 냉각하는 냉각부와, 냉각부에서 상온으로 냉각된 기판을 소정의 온도로 가열하는 가열부(61)와, 포토레지스트막의 노광을 위하여 기판을 감압 하에서 반출하는 로드록실(L1)과, 가열부(61)로부터 로드록실(L1)로 기판을 반송하는 반송부(62)를 구비한다.</p> |
