| 摘要 |
<p>Verfahren zur Herstellung einer Oberflächenbeschichtung auf einem Grundmaterial (2), wobei das Grundmaterial (2) eine Oberfläche (3) aufweist, wobei–in einem ersten Verfahrensschritt die Oberfläche (3) mit einem mittels eines Strahlerzeugers (12) erzeugten energiereichen Strahl an einer Vielzahl von Einzelbereichen (4) auf der Oberfläche (3) bestrahlt wird, wobei–das Grundmaterial (2) in den Einzelbereichen (4) kurzzeitig ablationsfrei erwärmt wird, wobei–das Grundmaterial (2) in den Einzelbereichen (4) oberflächennah umgeschmolzen wird, und–in einem zweiten Verfahrensschritt auf die Oberfläche (3) eine Beschichtung aufgebracht wird, dadurch gekennzeichnet, dass in dem ersten Verfahrensschritt eine regelmäßige Struktur (5) auf der Oberfläche (3) des Grundmaterials (2) erzeugt wird, wobei zwischen der Durchführung des ersten Verfahrensschritts und des zweiten Verfahrensschritts eine Unterbrechung von weniger als 2 h vorgesehen ist, und in dem zweiten Verfahrensschritt das Aufbringen der Beschichtung in einem thermischen Spritzverfahren erfolgt.</p> |
