发明名称 |
双垂直沟道晶体管 |
摘要 |
本发明公开了一种双垂直沟道晶体管,包括音叉型基底,其包括两个尖叉部;埋入式位线,埋入凹槽的底部,其中凹槽位在音叉型基底的两个尖叉部间;第一源/漏极区,位在音叉型基底内并紧邻埋入式位线;第二源/漏极区,位在音叉型基底的两个尖叉部的顶部;至少一绝缘栅极结构,埋入第二凹槽的底部,其中第二凹槽设置在尖叉部的至少一侧,且绝缘栅极结构的顶面高于埋入式位线的顶面;前栅极,位在音叉型基底的第一侧面上;及后栅极,位在音叉型基底相对于第一侧面的第二侧面上。 |
申请公布号 |
CN103378147B |
申请公布日期 |
2015.12.16 |
申请号 |
CN201210109073.5 |
申请日期 |
2012.04.13 |
申请人 |
南亚科技股份有限公司 |
发明人 |
陈逸男;徐文吉;叶绍文;刘献文 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 |
代理人 |
江耀纯 |
主权项 |
一种双垂直沟道晶体管,其特征在于,包括:音叉型基底,包括两个尖叉部;埋入式位线,埋入第一凹槽的底部,其中所述第一凹槽位在所述音叉型基底的两个尖叉部间;第一源/漏极区,位在所述音叉型基底内,且紧邻所述埋入式位线;第二源/漏极区,位在所述音叉型基底的两个尖叉部的顶部;至少一个绝缘栅极结构,埋入第二凹槽的底部,其中所述第二凹槽设置在所述尖叉部的至少一侧,且所述绝缘栅极结构的顶面高于所述埋入式位线的顶面;前栅极,位在所述音叉型基底的第一侧面上;及后栅极,位在所述音叉型基底相对于所述第一侧面的第二侧面上。 |
地址 |
中国台湾桃园县 |