前体传输系统

摘要

提供一种用于向反应腔室提供汽化前体的前体源容器。该前体源容器包括具有第一端口、第二端口和第三端口的盖。该前体源容器还包括可拆除地附着到该盖的基座。该基座包括形成于其中的凹陷区。该第一、第二和第三端口之一是排气端口，该排气端口构造成在半导体工艺中安装源容器之后但在使用源容器之前，释放源容器内的压头。

主权项

一种前体源容器，包括：盖，所述盖具有上表面，所述上表面包括入口端口、出口端口和排气端口；表面安装的排气阀门，与所述排气端口流体连通；以及基座，所述基座可拆除地附连至所述盖，所述基座具有形成于所述基座中的凹陷区，所述凹陷区包括排气口凹陷装配台和一体地形成在所述基座内的沟道，所述基座还包括内表面、侧表面、下表面以及加热组件，所述加热组件设置在所述基座内并被集成在所述侧表面、所述下表面与所述内表面之间的所述基座的壁中。