发明名称 |
聚焦离子束工艺改性加工的光学回音壁微腔结构及方法 |
摘要 |
一种聚焦离子束工艺改性加工的光学回音壁微腔结构,包括光纤,光纤的包层内设置有一环形区域,环形区域的折射率大于纤芯折射率;所述环形区域由聚焦离子束工艺对光纤上的相应区域进行改性而得;所述环形区域即形成光学回音壁微腔结构。本发明的有益技术效果是:提供了一种新结构的光学回音壁微腔结构,该光学回音壁微腔结构直接形成于光纤内,光纤表面无损伤。 |
申请公布号 |
CN105158854A |
申请公布日期 |
2015.12.16 |
申请号 |
CN201510685118.7 |
申请日期 |
2015.10.22 |
申请人 |
重庆大学 |
发明人 |
朱涛;史磊磊 |
分类号 |
G02B6/293(2006.01)I;B23K26/38(2014.01)I |
主分类号 |
G02B6/293(2006.01)I |
代理机构 |
重庆辉腾律师事务所 50215 |
代理人 |
侯懋琪;侯春乐 |
主权项 |
一种聚焦离子束工艺改性加工的光学回音壁微腔结构,包括光纤(1),其特征在于:所述光纤(1)的包层内设置有一环形区域(2),所述环形区域(2)的轴向方向与光纤(1)的径向方向平行,环形区域(2)的轴向厚度大于光纤(1)的纤芯直径,环形区域(2)的径向宽度小于纤芯直径;环形区域(2)与纤芯相交;所述纤芯在环形区域(2)轴向方向上的位置位于环形区域(2)的轴向跨度范围内;所述环形区域(2)的折射率大于纤芯折射率;所述环形区域(2)由聚焦离子束工艺对光纤(1)上的相应区域进行改性而得;所述环形区域(2)即形成光学回音壁微腔结构。 |
地址 |
400044 重庆市沙坪坝区沙正街174号 |