发明名称 |
图案形成方法、图案、树脂组成物、膜、空白罩幕、光罩的制造方法、光罩、奈米压印用模具的制造方法及奈米压印用模具 |
摘要 |
一种图案形成方法,包括:将感光化射线性或感放射线性树脂组成物涂布于基板上而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤;对所述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤;以及使用硷性显影液对曝光后的所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影的步骤,其中,所述感光化射线性或感放射线性树脂组成物含有(A)包含下述通式(I)所表示的重复单元的高分子化合物,且所述硷性显影液中的硷性成分的浓度为1.25质量%~2.2质量%。 |
申请公布号 |
TW201546560 |
申请公布日期 |
2015.12.16 |
申请号 |
TW104116164 |
申请日期 |
2015.05.21 |
申请人 |
富士软片股份有限公司 FUJIFILM CORPORATION |
发明人 |
椿英明 TSUBAKI, HIDEAKI;土桥彻 TSUCHIHASHI, TORU |
分类号 |
G03F7/039(2006.01);G03F7/32(2006.01);H01L21/027(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F1/20(2012.01);G03F1/22(2012.01);B29C59/02(2006.01);B29C59/16(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/039(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
叶璟宗郑婷文詹富闵 |
主权项 |
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地址 |
日本 JP |