发明名称 薄膜之成膜方法及成膜装置
摘要 提供一种以低成本成膜形成具备耐久性的薄膜之方法。该成膜方法系使用成膜装置1。该装置1系包括:真空容器11,基板100系被配置在其内部下方;真空泵15,其系用以将该容器11内排气;储存容器23,其系用以储存成膜剂溶液21,且系设置在容器11外部;喷嘴17,其系在一端具有能够将成膜剂溶液21吐出之吐出部19;及加压装置(气体供给源29等),其系用以将在储存容器23内所储存的成膜剂溶液21之液面加压。作为成膜剂溶液21,系使用由包括第1材料(S1)、及具有比该S1的蒸气压(P1)更高的蒸气压(P2)之第2材料(S2)之2种类以上的材料所构成,且第1材料的浓度为0.01重量%以上之溶液。将该成膜剂溶液21在P2以上的压力(但除了比P2更高一个位数以上的压力以外)的环境下,以0.05~0.3MPa的吐出压吐出至基板。
申请公布号 TW201545813 申请公布日期 2015.12.16
申请号 TW104114355 申请日期 2015.05.06
申请人 新柯隆股份有限公司 SHINCRON CO., LTD. 发明人 佐守真悟 SAMORI, SHINGO;高瀬慎一 TAKASE, SHINICHI;菅原聡 SUGAWARA, SATOSHI;长江亦周 NAGAE, EKISYU;姜友松 JIANG, YOUSONG
分类号 B01J3/04(2006.01);B05D1/02(2006.01);B05D5/00(2006.01);B05D3/00(2006.01);B05D7/24(2006.01) 主分类号 B01J3/04(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本 JP
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